|
Раздел 7. ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОЙ, ЛАЗЕРНЫЙ И ИОННЫЙ НАГРЕВ
Электронно-лучевой нагрев
Электронно-лучевой нагрев выполняют лучом (пучком) электронов, эмитируемых нагретым катодом, в глубоком вакууме. Устройство, формирующее электронный луч для технологического использования, называют электронной пушкой. Электроны, эмитируемые нагретым катодом пушки, ускоряются и фокусируются электрическим полем. На электрон в электрическом поле действует сила F=е·Е, под действием которой он ускоряется и приобретает энергию:
, (7.1)
где me, v и е - масса, скорость и заряд электрона; U - ускоряющее напряжение.
Разогнанный в электрическом поле поток электронов направляется на нагреваемый материал, при встрече с которым электроны тормозятся и их кинетическая энергия преобразуется в теплоту. Чтобы энергия электронов не рассеивалась в молекулах газа, электронный луч разгоняют в вакууме при давлении 10-2...10-3 Па. В зависимости от технологического назначения электронно-лучевых установок ускоряющее напряжение U изменяется от 15...20 до 100...200 кВ. Наиболее распространены электронно-лучевые установки с напряжением равным 20...30 кВ.
При напряжениях больше 20 кВ торможение электронов на металлической поверхности сопровождается не только нагревом, но и рентгеновским излучением (наподобие излучения рентгеновских трубок), что требует специальных мер защиты обслуживающего персонала.
Мощность выделяемая электронным пучком в месте столкновения с материалом, Р= U·I·η (где I – сила тока пучка; η – КПД). Величина мощности может иметь значение от десятков до тысяч киловатт в единице объема. Площадь же сечения луча на поверхности тела 10-3…10-5 мм2.
Основные технологические особенности электронно-лучевого нагрева заключаются в следующем: высокая концентрация мощности; нагрев материалов в вакууме, обеспечивающий высокое качество сварки и других процессов (что особенно важно для химически активных материалов); возможность плавного регулирования мощности; малоразмерная зона воздействия луча на материал (что позволяет выполнять тонкие термические операции на микродеталях).
К недостаткам электронно-лучевого нагрева относят: необходимость использования высокого вакуума; повышенная опасность при обслуживании из-за рентгеновского излучения; высокая стоимость и сложность эксплуатации оборудования. Поэтому его применяют там, где выполнить операции иными способами невозможно или должного эффекта не получается: сварка и термообработка деталей из молибдена, вольфрама, ниобия и других тугоплавких и химически активных металлов, микросварка радиодеталей, микросхем и т. п., размерная обработка деталей, нанесение покрытий.
Электронная пушка состоит из электронно-оптической системы (ЭОС), формирующей пучок электронов, и системы проведения пучка. ЭОС включает катод с косвенным подогревом (температура катода 2300...2500 К) и анод. Система проведения обеспечивает перемещение пучка электронов до заданной точки поверхности по заданному закону. По особенностям формирования электронного луча, определяемым технологическим назначением ЭЛУ, электронные пушки подразделяют на аксиальные, радиальные, щелевые. Наиболее распространены первые. Они отвечают требованиям выполнения различных технологических процессов (рис. 7.1). Источником электронов служит основной катод 2, подогреваемый вспомогательным 1 (вольфрамовая спираль). На вспомогательный электрод подают отрицательный относительно основного катода потенциал. Основной катод служит одновременно и фокусирующим электродом, обеспечивающим предварительное формирование луча. Ускоренный в электрическом поле луч проходит через диафрагму 3 анода, а затем, не снижая скорость, через фокусирующие магнитные линзы (соленоиды) 4 и 6. Между линзами установлена вольфрамовая диафрагма 5, улавливающая рассеянные электроны. Катушка 7 предназначена для автоматического перемещения луча по свариваемой детали 8 согласно заданной программе.
Рис. 7.1. Схема сварочной электронно-лучевой установки с аксиальной пушкой:
1 - …………………….
Лазерный нагрев
Лазеры или оптические квантовые генераторы – источники оптического излучения, отличающегося высокой когерентностью, узкой направленностью, большой концентрацией мощности, высокой степенью монохроматичности, способностью к фокусированию.
Лазерное излучение является индуцированным. Его испускают возбужденные внешним источником энергии (системой накачки) атомы или молекулы оптически активных веществ, электроны которых при возбуждении переходят на более высокие энергетические уровни, а затем, возвращаясь в первоначальное состояние, отдают приобретенную энергию в виде лавины квантов, тождественных по направлению, частоте, фазе и поляризации фотонам возбуждающей энергии.
Энергия перехода электрона с верхнего на нижний энергетический уровень определяется законом Планка:
, (10.3)
где Е2 – Е1 – энергия уровней, между которыми происходит переход; h = 6,62·10-34 Дж∙с - постоянная Планка; v - частота переходов, с-1.
Энергия излучения, которую имеет единица объема активного вещества концентрацией частиц N0 (м-3), зависит от степени инверсии активного вещества – количества N возбужденных атомов, электроны которых могут находиться на верхнем энергетическом уровне. Формально инверсное состояние можно описать формулой, определяющей распределение атомов по энергетическим уровням:
, (10.4)
где E - энергия верхнего уровня; k = 1,38 ∙10-23 Дж·К-1 - постоянная Больцмана.
Если считать температуру Т вещества отрицательной, ибо с понижением температуры генерация возникает при меньшей энергии накачки. Инверсное состояние называют также "состоянием с отрицательной температурой".
Энергия излучения, которую потенциально имеет единица объема активного вещества (Дж·м-3):
. (10.5)
Основные технологические особенности лазерного нагрева: наивысшая плотность мощности, известная на Земле, возможность передавать энергию лазера на расстояние и осуществлять, таким образом, бесконтактный нагрев тел; плавность регулирования интенсивности лазерного излучения и др.
Технологические особенности и свойства лазерного нагрева во многом совпадают со свойствами электронно-лучевого нагрева, схожи и области их применения. Однако лазерный нагрев имеет свои преимущества: он осуществляется на воздухе и не сопровождается рентгеновским излучением, стоимость установок лазерного нагрева меньше и они проще в обслуживании. Механизм воздействия лазерного излучения в зависимости от параметров может быть тепловым (при достаточно малой энергии квантов) и химическим (при высоких параметрах излучения), связанным с разрывом старых и установлением новых химических связей, так как кванты энергии оптического диапазона, определяемые формулой (10.3), соизмеримы с энергией некоторых химических связей в молекулах вещества. Это свойство лазерных лучей особенно важно при использовании в селекционной работе для индуцированного мутагенеза семян с целью получения растений с комплексом хозяйственно ценных свойств, в процессе предпосевной обработки семян, дефектоскопии и прединкубационной обработки яиц, в ветеринарии.
Отмеченными особенностями объясняется более широкое распространение лазерного нагрева по сравнению с электронным. Технологические лазерные установки (ТЛУ) применяют в машиностроении и на ремонтных предприятиях для пайки, сварки, сверления, резки металлов, нанесения покрытий, поверхностной закалки стальных деталей, оплавления и прошивки отверстий в керамических изделиях, в голографии, для резки и раскроя неметаллических материалов, в научных исследованиях.
Лазер состоит из трех основных узлов: излучателя (рабочее тело), системы накачки, оптического резонатора.
Излучатель – оптически активное вещество (тело), предназначенное для преобразования энергии накачки в лазерное излучение. Активное вещество может быть твердым диэлектриком, полупроводником, жидкостью, газом. Соответственно различают твердотельные, полупроводниковые, жидкостные и газовые лазеры. Наиболее распространены твердотельные и газовые лазеры.
Система накачки предназначена для возбуждения атомов активных веществ. Накачка может выполняться электрическими разрядами (газовые лазеры), оптическим излучением с помощью специальных ламп (твердотельные и жидкостные лазеры) и другим путем.
Оптический резонатор включает систему отражательных, преломляющих, фокусирующих и других оптических элементов, служащих для взаимодействия излучения с рабочим веществом.
Рис. 10.2. Схема устройства газового лазера на СО2:
а – однотрубная; б – многотрубная.
Для технологических целей используют газовые лазеры на аргоне, ксеноне, углекислом газе и твердотельные лазеры на неодимовых стеклах. Наибольшую мощность (до 5 кВт, а опытные образцы – до 20 кВт) имеют лазеры на углекислом газе с примесью азота и гелия (СО2-лазеры). На рисунке 10.2 показана схема устройства СО2-лазера, представляющего собой стеклянную водоохлаждаемую трубку 1 диаметром до 60 мм, через которую непрерывно подается (в данном случае лазер с продольной прокачкой) углекислый газ с примесью азота и гелия, давление газа 0,1…1 кПа. Внутри трубки по ее концам размещены электроды 2, к которым поступает от источника 4 питания постоянное напряжение (около 2000 В). Между электродами возникает стационарный тлеющий разряд, возбуждающий молекулы газа. Лазерное излучение выходит через окно 3. Концентрация активных частиц в газовой среде (1019...1022 м-3) намного ниже, чем в твердотельных излучателях (1023…1026 м-3). По этой причине и в соответствии с зависимостью (10.5) с 1 м длины трубки можно снять мощность не более 50 Вт, поэтому газовые лазеры делают многотрубными (рис. 10.2,б). Лазеры на СО2 относятся к молекулярным, в них возбуждаются молекулы, испускающие лазерное излучение с волнами длиной 10,6 мкм, лежащее в инфракрасной области спектра.
Лазеры работают в непрерывном и импульсном режимах. Первый характеризуется мощностью луча, второй – мощностью, длительностью, энергией импульса и частотой их повторения. СО2 - лазер в непрерывном режиме имеет мощность 10...102 Вт, в импульсном – 106...109 Вт, длительность импульсов 1...10 мкс, частота 25...100 Гц, КПД 8...30 %. Наиболее высоким КПД (50...60 %) отличаются полупроводниковые лазеры, работающие преимущественно в импульсном режиме.
В таблице 10.1 приведены некоторые типы газовых лазеров, работающие в непрерывном режиме и применяемые в сельскохозяйственном производстве. Используются ТЛУ и с твердотельными лазерами: "Квант:16" мощностью 30 кВт, работающий в импульсном режиме (используются в ремонтном производстве), установки малой мощности: "Львов-1", "Урожай" (для предпосевной обработки семян). Номенклатура и область применения ТЛУ непрерывно расширяются.
Таблица 7.1. Основные технические данные газовых лазеров некоторых типов
Параметр
| ЛГ-17
| ЛГ-25
| ЛГ-36
| ЛГ-56
| ЛГ-75
| ЛГ-126
| ЛГ-187
| Выходная мощность, Вт
|
|
|
|
|
|
|
| Рабочее напряжение, В
| 7,0
| 8,5
| 3,5
| 1,5
| 2,0
| 1.5
| 11,0
| Масса, кг
|
|
|
| 1.7
|
| 13,5
|
|
Ионный нагрев
Ионный нагрев металлических тел осуществляют потоком положительных ионов низкотемпературной плазмы, создаваемой в вакууме тлеющим электрическим разрядом.
Нагреваемое тело (изделие) помещают в металлическую вакуумированную (давление порядка 10-3 Па) камеру и подводят к нему отрицательный полюс источника питания постоянного тока, а к стенкам камеры – положительный полюс. В камеру подают рабочие летучие вещества: газ (аммиак, бор и др.), твердые летучие вещества, пары металлов (их получают в той же камере электродуговым испарением). Между изделием и стенками камеры возбуждают тлеющий электрический разряд (рис. 10.3). Катод – изделие нагревается потоком положительных ионов летучих присадочных веществ, извлекаемых из низкотемпературной плазмы. Ионы, устремляющиеся к изделию, не только нагревают его, отдавая запасенную в электрическом поле энергию, но и вступают с поверхностью изделия в сложные взаимодействия, поэтому ионный нагрев используют в процессах химико-термической обработки металлов, таким как:
– диффузное поверхностное упрочнение (азотирование, цементация, борирование и др.) металлических изделий (инструмента, шестерен, гильз двигателей внутреннего сгорания, коленчатых валов и др.) путем насыщения легирующими элементами слоев изделий при диффузном взаимодействии ионов с изделием, сопровождаемым нагревом. Процесс протекает при скорости диффузии ионов в металл, превышающей скорость осаждения ионов;
– поверхностное покрытие изделий путем ионно-плазменного напыления нитридов (молибдена, титана и др.), карбидов, карбонитридов и других веществ. Процесс протекает при скорости конденсации ионов, превышающей скорость их диффузного взаимодействия с подложкой.
Преимущества ионно-плазменной обработки по сравнению с химико-термической обработкой в плазменных печах состоят в повышении производительности в 8...10 раз, уменьшении деформации и повышении износостойкости деталей в 1,5...3 раза, режущего инструмента в 2...10 раз, существенного снижения энергозатрат.
Установки ионного нагрева выпускают на мощности в десятки и сотни киловатт. Для возбуждения плазмы используют источники постоянного тока с выходным напряжением от десятков вольт до 1,5 кВ.
Рис. 10.3. Схема ионного нагрева:
1 – герметическая рабочая камера; 2 – обрабатываемое тело; 3 – подвод газа; 4 – вакуумная система; 5 – плазма.
Источники питания
Установки электронно-лучевого, лазерного и ионного нагрева питаются от источников постоянного тока (напряжения). Общий элемент источников питания (ИП) – преобразователь переменного тока в постоянный. Различаются установки мощностью и выходным напряжением (десятки и сотни вольт в установках ионного нагрева, единицы киловольт в установках лазерного нагрева, десятки киловольт в установках электронно-лучевого нагрева).
Основные требования к источникам питания: возможность регулирования мощности; устойчивость к коммутационным перенапряжениям; обеспечение управления по заданному режиму или программе.
Структурная схема ИП включает в общем случае следующие блоки: преобразования напряжения сети в необходимое напряжение установки (повышающий трансформатор); преобразования переменного тока в постоянный (неуправляемый или управляемый выпрямитель, фильтры, устройства стабилизации и защиты); собственных нужд (системы накачки, поджига, фокусирования и др.); управления, регулирования, контроля.
При общих принципах структуры ИП установок каждого вида имеют особенности, обусловленные видом вольт-амперных характеристик, спецификой работы, технологическими и другими требованиями.
Вольт-амперные характеристики электронных пушек электроннолучевых установок возрастающие. В них возможны короткие замыкания между электродами, поэтому ИП должны иметь жесткую внешнюю характеристику и быть устойчивыми к пробоям. На рисунке 10.4 показана принципиальная электрическая схема силовых цепей источника питания таких установок. Он представляет собой регулируемый трехфазный выпрямитель с тиристорными регулирующими элементами VS в первичной обмотке повышающего трансформатора TV1. Две вторичные обмотки нагружены выпрямителями UZ1 и UZ2, выходы которых могут соединяться параллельно или последовательно, обеспечивая требуемое для работы установки напряжение. Накал катода электронной пушки Е питается от трансформатора TV2. В главной цепи тока включен шунт Rш, параллельно которому подключено токовое реле КА для защиты от перегрузки.
Рис. 10.4. Схема силовых цепей источника питания электронно-лучевой установки
Вольт-амперные характеристики газовых лазеров непрерывного режима и устройств ионного нагрева падающие. Чтобы обеспечить их устойчивую работу в источниках питания предусматривают балластные элементы в виде резисторов, катушек индуктивности, конденсаторов, применяют параметрические источники тока или управляемые источники напряжения с автоматической стабилизацией тока. Важный элемент ИП – система поджига разряда, который обычно осуществляется инициированием высоковольтными импульсами, подаваемыми к разрядному промежутку.
На рисунке 10.5 показана структурно-принципиальная схема маломощной лазерной установки "Львов-1", применяемой для предпосевной обработки семян. Она включает атомарный газовый лазер А типа ЛГН-104, работающий в непрерывном режиме на смеси неона и гелия (длина волны излучения 0,63 мкм), и источник питания, изображенный в виде условно изображенных функциональных блоков (заключены в рамки). Мощность лазерного излучения 50 мВт, потребляемая мощность 0,6 кВт. Особенность излучателя – наличие двух катодов (К1 и К2) при одном аноде, что вызвано требованиями получения необходимой мощности излучения при минимальных габаритных размерах и простоте конструкции излучателя. Охлаждение излучателя воздушное, постоянный состав газовой смеси поддерживается распыляемым газопоглотителем-баллончиком, сообщающимся с трубкой активного элемента.
Установка (рис. 10.5) включает высоковольтный источник питания G, в который входит повышающий трансформатор TV1, выпрямитель с удвоением напряжения (VD1, VD2, C1, С2), делитель напряжения (R1 - R4), диодный мост UZ с тиристорным ключом VS в диагонали; схему импульсно-фазового управления (СИФУ); устройство зажигания излучателя (УЗИ); два стабилизатора тока (СТ); усилитель обратной связи (УОС). СИФУ предназначена для управления моментом включения тиристора и регулирования тем самым выходного напряжения и тока разряда. СИФУ совместно с УЗИ формируют импульсы высокого напряжения, подаваемые на катоды К1 и К2 для возбуждения разряда. После возбуждения разряда схема формирования импульсов выключается. Высоковольтный выпрямитель вместе с СИФУ и УОС образуют стабилизатор напряжения, который в режиме холостого хода повышает напряжение до 2,8 кВ, необходимое для зажигания лазера, в режиме генерации снижает напряжение до 2,4 кВ, а при перегрузке до 2 кВ. Стабилизатор тока согласовывает падающую вольт-амперную характеристику газового разряда с выходными параметрами источника питания и обеспечивает устойчивую работу излучателя при колебаниях напряжения питающей сети.
Рис. 10.5. Структурно-принципиальная схема лазерной установки «Львов-1»
Схемы источников питания установок каждого вида нагрева весьма разнообразны. Помимо вольт-амперных характеристик они определяются назначением установок, их мощностью, конструктивным исполнением, требованиями к регулированию и другими факторами.
Контрольные вопросы и задания. 1. Каковы физические принципы электронно-лучевого, лазерного и ионного способов нагрева, их технологические возможности и основные области применения?. 2. Объясните принципы устройства и работы аксиальной электронной пушки, технологического газового лазера, установки для ионного нагрева? 3. Что общего в источниках питания технологических установок электронно-лучевого, лазерного и ионного нагрева, в чем различия и чем обусловлены?
Библиографический список
1. Альтгаузен, А.П. Низкотемпературный электронагрев [Текст] / А.П. Альтгаузен, М.Б. Гутман, С.А. Малышев [и др.]; под ред. А.Д. Свенчанского. – М.: Энергия, 1978. – 208 с.
2. Баранов, Л.А. Светотехника и электротехнология [Текст] / Л.А. Баранов, В.А. Захаров. – М.: КолосС, 2006. – 344 с.
3. Басов, А.М. Электротехнология [Текст] / А.М. Басов, В.Г. Быков, А.В. Лаптев, В.Б. Файн. – М.: Агропромиздат, 1985. – 256 с.
4. Белавин, Ю.А. Трубчатые электрические нагреватели и установки с их применением [Текст] / Ю.А. Белавин, М.А. Евстигнеев, А.Н. Чернявский. – М.: Энергоатомиздат, 1989. – 160 с.
5. Герасимович, Л.С. Низкотемпературные электронагреватели в сельском хозяйстве [Текст] / Л.С. Герасимович, В.П. Степанцов, В.А. Коротинский [и др.]; под общ. ред. Л.С. Герасимовича. – Мн.: Урожай, 1984. – 118 с.
6. Егиазаров, А.Г. Отопление и вентиляция зданий и сооружений сельскохозяйственных комплексов [Текст] / А.Г. Егиазаров. – М.: Стройиздат, 1981. – 299 с.
7. Живописцев, Е.Н. Электротехнология и электрическое освещение [Текст] / Е.Н. Живописцев, О.А. Косицын. – М.: Агропромиздат, 1990. – 303 с.
8. Каган, В.Г. Электротермическое оборудование для сельскохозяйственного производства [Текст] / Н.Б. Каган, В.Г. Кауфман, М.Г. Пронько [и др.]. – М.: Энергия, 1980. – 192 с.
9. Карасенко, В.А. Электрификация тепловых процессов в животноводстве [Текст] / В.А. Карасенко. – Минск: Ураджай, 1976. – 160 с.
10. Карасенко, В.А. Электротехнология [Текст] / В.А. Карасенко, Е.М. Заяц, А.Н. Баран, В.С. Корко. – М.: Колос, 1992. – 304 с.
11. Кудрявцев, И.Ф. Электрический нагрев и электротехнология [Текст] / И.Ф. Кудрявцев, В.А. Карасенко. – М.: Колос, 1975. – 384 с.
12. Материалы для электротермических установок: Справочное пособие [Текст] / под ред. М.Б. Гутмана. – М.: Энергоатомиздат, 1987. – 296 с.
13. Практикум по электротехнологии [Текст]: учебн. пособие для вузов / В.Н. Гайдук, В.Н. Шмигель. – М.: Агропромиздат, 1989.
14. Расстригин, В.Н. Электронагревательные установки в сельскохозяйственном производстве [Текст] / В.Н. Расстригин, И.И. Дацков, Л.И. Сухарева, В.М. Голубев; под общ. ред. В.Н. Расстригина. – М.: Агропромиздат, 1985. – 304 с.
15. Расстригин, В.Н. Применение систем и средств электротеплоснабжнения в животноводстве [Текст] / В.Н. Расстригин, С.А. Растимешин, С.С. Трунов [и др.]. – М.: ВНИИТЭИСХ, 1985. – 61 с.
16. Справочник инженера-электрика сельскохозяйственного производства [текст]: учебное пособие. – М.: Информагротех, 1999. – 536 с.
18. Электротермическое оборудование [Текст]: справочник. / под ред. А.П. Альтгаузена. – 2-е изд. – М. Энергия, 1980.
19. Электротехнический справочник в 4 т. [Текст]: Т. 4. Использование электрической энергии / под общ. ред. профессоров МЭИ В.Г. Герасимова [и др.] (гл. ред. А.И. Попов). – 9-е изд. стер. – М.: Издательство МЭИ, 2004. – 696 с.
ОГЛАВЛЕНИЕ
Введение…..……………………………………………………………
|
| Раздел 1. Общие вопросы электротермии, её применения в сельскохозяйственном производстве и основы теории электрического нагрева ………………………………………………
|
| 1.1. Электротермия и сельскохозяйственное производство………...
|
| 1.2. Электрический нагрев проводников, диэлектриков и полупроводников ………………………….…...………………...…..
|
| 1.3. Закономерности преобразования электрической энергии в тепловую………………………………………………………….……
|
| 1.4. Терминология и определения в электротермии…..………..…...
|
| 1.5. Классификация электротермических установок ………….…...
|
| 1.6. Задачи и содержание расчета электротермических установок..
|
| Раздел 2. Тепловой расчёт ЭТУ……………….…………………..…..
|
| 2.1. Основы динамики электронагрева………..…………...…………
|
| 2.2. Уравнение теплового баланса……...……………………………..
|
| 2.3. Определения мощности и основных конструктивных размеров электротермической установки…………….…………………………
|
| 2.4. Определение теплового КПД и удельного расхода электрической энергии………….…….………………………………
|
| 2.5. Выбор тепловой изоляции………………………….…………....
|
| 2.6. Схемы включения нагревательных элементов и способы регулирования мощности электротермических установок…..……..
|
| Раздел 3. Электрический нагрев методом сопротивления……….....
|
| 3.1. Способы электрического нагрева сопротивлением ………..…...
|
| 3.2. Электрическое сопротивление проводников …………....……...
|
| 3.3. Электроконтактный нагрев …………………………….….……..
|
| 3.4. Расчёт и выбор нагревательных трансформаторов ……….….....
|
| 3.5. Электроконтактная сварка …………..……………….…..……...
|
| 3.6. Электродный нагрев. Материалы электродов……………..……
|
| 3.7. Допустимая плотность тока на электродах и напряжённость электрического поля…………………………………………..……….
|
| 3.8. Расчёт электродных нагревательных устройств…..…..…...……
|
| 3.9. Косвенный электронагрев сопротивлением. Требования к материалам и конструкции нагревательных элементов…………….
|
| 3.10. Трубчатые электрические нагреватели…………………………
|
| 3.11. Электрический и конструктивный расчёты нагревательных элементов……………………………………………………………….
|
| 3.12. Особенности расчёта стальных нагревателей….………………
|
| 3.13. Нагревательные провода и кабели……..…………………...…..
|
| 3.14. Расчет нагревательных проводов и кабелей ….………………..
|
| Раздел 4. Электродуговой нагрев…………………………...………...
|
| 4.1. Свойства и характеристики электрической дуги…….………….
|
| 4.2. Зажигание, устойчивость горения и регулирование тока дуги...
|
| 4.3. Режимы сварки и работы источников питания сварочной дуги.
|
| 4.4. Источники питания сварочной дуги ……..…………...…………
|
| Раздел 5. Индукционный и диэлектрический нагрев………………
|
| 5.1. Особенности индукционного нагрева и его основные физические закономерности ……………………………...…………..
|
| 5.2. Индукторы. Конструктивное исполнение и область применения……………………………………………………………..
|
| 5.3. Коэффициент полезного действия и коэффициент мощности при индукционном нагреве ……………………………...……………
|
| 5.4. Режимы индукционного нагрева …….……….………………….
|
| 5.5. Расчёт индукционных нагревателей на промышленной частоте
|
| 5.6. Основы диэлектрического нагрева и его особенности ………..
|
| 5.7. Выбор частоты и напряженности электрического поля при диэлектрическом нагреве……………………………………………...
|
| 5.8. Расчёт конденсатора для диэлектрического нагрева……………
|
| 5.9. Источники питания установок индукционного и диэлектрического нагрева…………………………………………….
|
| 5.10. Современные источники питания индукционных установок…
|
| Раздел 6. Термоэлектрический нагрев и охлаждение………………..
|
| 6.1. Термоэлектрические явления…………………………………….
|
| 6.2. Термоэлектрические тепловые насосы…………………………..
|
| Раздел 7. Электронно-лучевой, лазерный и ионный нагрев……….
|
| 7.1. Электронно-лучевой нагрев……………..……………….…….
|
| 7.2. Лазерный нагрев…………………………………..…………….
|
| 7.3. Ионный нагрев……….……………….…………...…………….
|
| 7.4. Источники питания…...…………………………...…………….
|
| Библиографический список…………………………...…………….
|
| Оглавление………………………………………………….…………..
|
| Приложение 1 Электронагреватели трубчатые ………………….…..
|
| Приложение 2 Электронагревательные провода …..………….…..
|
|
ПРИЛОЖЕНИЕ 1
Не нашли, что искали? Воспользуйтесь поиском по сайту:
©2015 - 2024 stydopedia.ru Все материалы защищены законодательством РФ.
|