Сделай Сам Свою Работу на 5

Влияние технологических факторов на адгезионную прочность пленок с подложкой





Известно, что напряженное состояние в пленках может изменить адгезионную прочность. Внутренние механические макронапряжения в тонких пленках делятся на собственные и термические. Собственные напряжения появляются в процессе формирования пленок, а термические возникают из-за различия в температурный коэффициент линейного расширения (ТКЛР пленки и подложки.

Напряжения в металлических пленках можно исследовать по формуле Стоуни:

,

где Е – модуль Юнга кремниевых подложек; d – толщина подложки; γ – коэффициент Пуассона подложки; t – толщина металлического покрытия; R1 и R2 – радиусы кривизны подложки до и после осаждения металлического покрытия.

Подложка изгибается, если пленка в напряженном состоянии осаждается на тонкую подложку. Поверхность пленки окажется вогнутой в случае растягивающих напряжений, а сжимающие напряжения придают пленке выпуклый вид. Растягивающие напряжения считают положительными, сжимающие – отрицательными.

Если напряжения в пленке не вызывают деформации подложки, то термические напряжения в сплошной металлической пленке определяют по формуле



,

где E, µ – модуль упругости и коэффициент Пуассона металлической пленки; α1 и α2 – термические коэффициенты линейного расширения соответственно металлической пленки и подложки; Т1 – температура осаждения; Т2 – рабочая температура.

Для измерения внутренних напряжений в тонких пленках существуют различные методы. Наиболее широко применяются механические методы, основанные на измерении деформации в пленке и подложке, вызванной внутренними напряжениями, а также методы рентгеновской или электронной дифракции.

Определена зависимость внутренних механических макронапряжений в пленках алюминия различной толщины. Величина напряжений σ вычислялась по формуле Стоуни с учетом коэффициента Пуассона

,

где Es и µs – модуль Юнга и коэффициент Пуассона для подложки; ls и hs – длина и толщина подложки; δ – отклонение свободного конца подложки; hf – толщина пленки.

Алюминиевые пленки наносились на пластины размером 60´4´0,15 мм из покровных стекол. Макронапряжения в пленках определялись по изгибу консольно закрепленной пластины. На рис. 3.9 представлены зависимости величины макронапряжений в конденсате от толщины пленки алюминия. Макронапряжения имеют максимум при толщине пленки алюминия 100-130 нм.



Для исследований соединений с близкими ТКЛР материалов покрытия и подложки разработан способ определения качества адгезии. При этом соединение подложка – покрытие нагревают и выдерживают при максимальной температуре нагрева. Затем воздействуют на соединение охлаждающей жидкостью в виде капель на один и тот же участок со стороны покрытия. При контактировании капли с пленкой на данном участке возникают дополнительные термические напряжения, которые приводят к нарушению адгезии пленки с подложкой. О качестве сцепления покрытия с подложкой судят по числу капель, приводящих к отслоению или нарушению сплошности покрытия.

 

Рис. 3.9. Зависимость величины макронапряжений в конденсате от толщины пленки алюминия (скорость напыления 4 нм/с): 1 – ТC = 373 К; 2 – ТC = 298 К

 

С целью сохранения свойств материала покрытия при испытании натурных деталей разработан следующий способ. В покрытие имплантируют ионы, идентичные по химическому составу материалу покрытия. В результате имплантации ионов через поры покрытия в пленках возникают внутренние напряжения. При соответствующей дозе облучения внутренние напряжения превышают прочность сцепления покрытия с основой, что приводит к отрыву пленки от подложки. О прочности сцепления судят по дозе облучения ионами.

Основными технологическими факторами, влияющими на качество адгезии пленок, являются: обработка подложек перед нанесением, температура подложек, скорость нанесения пленки и ее толщина, атмосфера остаточных газов в вакуумной камере в процессе нанесения.



На прочность сцепления металлических пленок с подложкой существенное влияние оказывает способ обработки поверхности подложки перед нанесением пленок. Проведено сравнительное экспериментальное исследование влияния различных способов подготовки поверхности боросиликатных стекол на адгезию к ним вакуумных конденсатов индия (рис. 3.10). Пленки индия наносились термическим способом. Их толщина составляла в среднем 0,3 мкм. Адгезия измерялась методом отрыва штифтов, которые приклеивались к пленке эпоксидной смолой. Делается вывод, что адгезия пленок индия к ювенильной поверхности стекол определяется в основном силами Ван-дер-Ваальса. При обработке стекла в газовом пламени и в тлеющем разряде увеличение адгезии связано с модификацией поверхности.

Ультразвуковые колебания, вводимые в подложку в процессе вакуумного напыления тонких металлических пленок алюминия, меди, серебра, влияют на адгезию к стеклянным подложкам. Напыление пленок проводили при комнатной температуре подложек без дополнительного нагрева при давлении в вакуумной камере 130·10–5 Па. Мощность ультразвуковых колебаний, вводимых в подложку, составляла 0,14; 0,35; 0,67 Вт/см2. Установлено, что адгезия пленок к подложке возрастает с увеличением мощности ультразвуковых колебаний. Отмечается, что ультразвуковые колебания в неодинаковой степени увеличивают адгезию разных материалов. Например, при мощности колебаний 0,67 Вт/см2 адгезионная прочность пленок серебра увеличилась по сравнению с адгезионной прочностью этих пленок, полученных в обычных условиях, примерно в 2 раза, пленок меди в 5 раз, пленок алюминия в 10 раз. При получении пленок алюминия применение ультразвуковых колебаний может исключить операцию нанесения подслоя хрома, используемого для увеличения прочности сцепления пленок.

Рис. 3.10. Диаграммы результатов измерения адгезии пленок индия к стеклу С49‑2(а) и предметному стеклу (б) в зависимости от способа обработки поверхности: 1 – скол в парах напыляемого металла; 2 – скол на воздухе: 3 – промывка спиртом; 4 – газопламенная обработка; 5 – обработка в тлеющем разряде (для С49‑2 – скол на воздухе); 6 – обработка в тлеющем разряде (скол в вакууме)

 

На адгезию металлических пленок к диэлектрическим подложкам в значительной степени влияет ионизирующее излучение. Известна зависимость адгезионной прочности пленок серебра и меди толщиной 25-110 нм, нанесенных на стеклянные и монокристаллические рубиновые подложки испарением в вакууме, от дозы облучения. Пленки облучались пучком электронов энергией 16·10–13 Дж или протонов энергией 56·10–16 и 1,6·10–13 Дж. Установлено, что облучение электронами до дозы 2,4·10–12 эл/см2 приводит к уменьшению адгезии почти в два раза, а облучение максимальной дозой 5·1015 эл/см2 не приводит к дальнейшему уменьшению адгезии. С увеличением толщины пленок наблюдается тенденция к уменьшению адгезионной прочности пленок с подложками.

Адгезия тонких пленок к подложкам существенным образом зависит от материала и толщины подслоя. В современных ГИС в качестве подложек часто используется ситалл, а контактные проводящие дорожки изготавливаются из меди. В качестве подслоя между подложкой и медной пленкой наибольшее распространение получил ванадий. Исследовалось влияние времени напыления (толщины) подслоя ванадия на адгезию пленки меди к ситаллу. На основании полученных результатов определено оптимальное время напыления подслоя ванадия 35-45 с. При этом толщина подслоя ванадия составляет 5-10 нм с удельным поверхностным сопротивлением ρ = 2 кОм/□. Уменьшение адгезии медной пленки к ситаллу при большом времени напыления ванадия объясняется загрязнением паров ванадия молибденом из молибденовых тиглей.

Адгезионная прочность медных пленок к полиимидной ленте зависит от материала подслоя и видов обработки ленты перед напылением пленок. Наибольшая величина адгезии нанесенных пленок меди с подслоем хрома наблюдалась на полиимидной ленте, обработанной горячей хромовой смесью на основе серной кислоты. Адгезионная прочность пленок меди к полиимидной ленте в 4-6 раз выше для структуры с подслоем титана по сравнению с подслоем меди.

Рассмотрена адгезия пленок меди с подслоем хрома, нанесенных методом электронно-лучевого испарения и конденсации в вакууме на подложки из керамики 22ХС. Подложку перед загрузкой в вакуумную камеру обрабатывали в концентрированной хромовой смеси и промывали в дистиллированной воде с последующей сушкой в термошкафу.

Установлено, что четко выраженной зависимости адгезии от толщины подслоя хрома в интервале 0,08-0,3 мкм не обнаружено (рис. 3.11). В то же время адгезионная прочность медных пленок с подслоем хрома при повышении температуры подложки улучшается. Наибольшего значения адгезия достигает при температуре керамики 22ХС 570-620 К.

Повысить адгезию пленок серебра к кварцу, а также к стеклам К8 и ЛК5 возможно за счет нанесения на подложку подслоя пленки двуокиси кремния с последующей термообработкой посеребренных поверхностей. Обработка поверхностей деталей из кварца и стекла ЛК5 перед химическим серебрением 0,2 %-ным раствором хлористого палладия с последующим увеличением температуры прогрева в 3-4 раза повышает адгезию пленок серебра.

 

Рис. 3.11. Зависимость адгезии подслоя хрома к керамике 22ХС от температуры подложки (1) и толщины подслоя хрома (2)

 

В некоторых приборах электронной техники широко применяются щелочно-галоидные кристаллы (ЩГК) NaF, LiF, NaCl, KCl, KBr, KJ, а также инфракраснопрозрачные кристаллы на основе таллия Tl, TlJ, TlCl. Металлические пленки наносятся термическим испарением в вакууме со скоростью напыления металла 4 нм/с при температуре подложки, близкой к комнатной. Толщина пленок составляла 0,5 мкм. Адгезионная прочность пленок определялась методом нормального отрыва пленки от подложки. Данные по адгезионной прочности системы металлическая пленка – кристаллическая подложка представлены в табл. 3.1 и 3.2. Адгезионную прочность пленки алюминия к кристаллам NaCl, KCl, KBr, KJ измерить не удалось, так как происходило отслаивание конденсата алюминия от подложки сразу же после извлечения образцов из вакуумной камеры.

 

Табл. 3.1. Адгезионная прочность системы металл – ЩГК, МПа

металл NaF LiF NaCl
вакуум воздух вакуум воздух вакуум воздух
Cu 5,5
Ag
Au
Al отслоение пленки
Jn 6,5 вырыв
Sn
Pb

 

Табл. 3.2. Адгезионная прочность системы металл – (TlBr – TlJ), МПа

металл вакуум (срез) воздух
срез полировка
Cu
Ag
Au
Zn
Cd
Al отслаивание отслаивание отслаивание
Jn
Sn
Pb
Ni
Co
Fe
Cr отслаивание
Ti
Mn химическая реакция    
Mg    

 

Для всех металлов, кроме алюминия, и подложек разрушение происходило по границе металлической пленки с оксидной подложкой. Для пленок алюминия разрушение происходило по клею и лишь в некоторых случаях наблюдался частичный адгезионный отрыв пленки от кварца.

 

 

 








Не нашли, что искали? Воспользуйтесь поиском по сайту:



©2015 - 2024 stydopedia.ru Все материалы защищены законодательством РФ.