Сделай Сам Свою Работу на 5

Особенности восприятия информации с экрана монитора органами зрения

При работе на ПЭВМ органы зрения пользователя выдерживают большую нагрузку с одновременным постоянным напряжённым характером труда, что приводит к нарушению функционального состояния зрительного анализатора и центральной нервной системы [3.17. - 3.19.].

Нарушение функционального состояния зрительного анализатора проявляется в снижении остроты зрения, устойчивости ясного видения, акко­модации, электрической чувствительности и лабильности, нарушение мы­шечного баланса.

Причинами нарушения функционального состояния зрительного ана­лизатора являются постоянная переадаптация органов зрения в условиях на­личия в поле зрения объекта различения и фона различной яркости; недоста­точной чёткостью и контрастностью изображения на экране; стройностью воспринимаемой информации: постоянными яркостными мельканиями; нали­чием ярких пятен на клавиатуре и экране за счёт отражения светового потока, большой разницей между яркостью окружающих предметов, наличием равно­удалённых предметов, невысоким качеством исходной информации на бума­ге, неравномерной и недостаточной освещённостью на рабочем месте.

Наряду с перечисленными общепринятыми особенностями работы пользователя на рабочем месте ПЭВМ существуют особенности восприятия информации с экрана монитора.

Бумага лежит горизонтально на плоскости стола, и чтение текста происходит при падении естественного света из окна или искусственного от верхней или настольной лампы, который отражается от бумаги. Глаза без тру­да различают поглощающую свет типографскую краску на фоне бумаги, от­ражающей его. При работе с компьютером голова оператора не опущена, а смотрит прямо или почти прямо вперёд. При чтении текста знаки и изображе­ния формируются по ту сторону стеклянного экрана из люминесцирующего вещества, который под воздействием быстрых потоков электронов испускает свет в направлении глаз, и поэтому оператор считывает не отражённый текст, а смотрит непосредственно в источник света.



Вдобавок, по качеству передачи информации обычный кинескоп все еще сильно уступает белой бумаге с нанесённой на неё черной типографской краской. При увеличении на дисплее видна туманная, размытая, состоящая из мелких точек буква, чёткость контура которой вдобавок ухудшается из-за служащих её фоном экранных строк.

Глаза считывающего тексты с дисплея, должны компенсировать низ­кое качество воспроизведения. Многие усугубляют это тем, что настраивают кинескопы на чрезмерную или недостаточную контрастность, не замечая к тому же, что причиной неудобства являются блики от естественного и искус­ственного света, что создаёт дополнительную нагрузку.

Пользователь вводит информацию с рядом лежащего текста в ПЭВМ и просматривает на мониторе, в результате глаза перебегают с бумаги (отра­жение света) на экран монитора (падающий свет) и обратно. Сотни раз в день глаза должны перестраиваться с одного способа чтения на другой.

При работе на ПЭВМ голова пользователя не опущена, а смотрит прямо или почти прямо вперёд. При чтении текста знаки и изображения фор­мируются по ту сторону стеклянного экрана из люминесцирующего вещества, который под воздействием быстрых потоков электронов испускает свет в на­правлении глаз, и поэтому оператор считывает неотражённый текст, а смот­рит непосредственно в источник света.

"Работа весь день за дисплеем создаёт большую нагрузку для глаз, - говорит X. Хаббелинк, специалист в области эргономики из бельгийской ком­пании ЭТАП, производящей кинескопы. - Дело в том, что по качеству пере­дачи информации обычный кинескоп всё ещё сильно уступает белой бумаге с нанесённой на неё чёрной типографской краской. Буквы на экране дисплея можно прочесть, но этого мало. Поднесите печатный лист к дисплею и взгля­ните на то и на другое через увеличительное стекло. На дисплее вы увидите туманную, размытую, состоящую из мелких точек букву, чёткость контура которой вдобавок ухудшается из-за служащих ее фоном экранных строк." [3.17.]

Глаза, считывающего тексты с дисплея, должны компенсировать низ­кое качество воспроизведения, а как показывает практика, многие усугубляют это тем, что настраивая кинескопы на чрезмерную или недостаточную кон­трастность, не замечая к тому же, что естественный свет из окон и искусст­венный с потолка или от настольной лампы создают блеск на стеклянной по­верхности кинескопа и создают дополнительную нагрузку.

"Но и это ещё не всё, - говорит Хаббелинк. - машинистка вводит текст в компьютер. Рядом у неё бумага с текстом, впереди - экран. Глаза пе­ребегают с бумаги (отражение света) на экран (излучающий свет) и обратно. Сотни, тысячи раз в день глаза должны перестраиваться с одного способа чтения на другой. Устранима ли эта проблема? Без сомнения. Мы пытаемся решить её путём значительного улучшения качества кинескопа, в идеале све­дя на нет различие между экраном и бумагой с напечатанным или написан­ным текстом. Это лучше отвечает требованиям эргономики, чем принимае­мые сейчас полумеры, такие, как насадки на экран, специальные очки и жид­кости, которые наносят на кинескоп с целью ослабить блики." [3.17].

В результате, жалобы на те или иные расстройства зрения появляются у 62-94% людей, занятых работой на ПЭВМ более половины дня:

усталость глаз

сильные боли и ощущение песка в глазах зуд в глазах к концу рабочего дня

Расстройство органов зрения резко увеличивается при работе более 4 часов в день. Утомление органов зрения наблюдается через 1,5-2 часа непре­рывной работы, после 2-2,5 часов работы возникает головная боль и боли в спине при одновременном дальнейшем увеличении расстройства органов зре­ния.

Нагрузка на органы зрения и постоянный напряжённый характер тру­да вызывают нарушение функционального состояния зрительного анализато­ра и центральной нервной системы.

Установлено, что случаи заболевания конъюнктивитом и блефори- том у людей, работающих с ПЭВМ, встречаются в 2 раза чаще, чем у кон­трольных групп людей, не связанных с работой на ПЭВМ.

В заключение, перечислим основные причины расстройства зрения при работе за ПЭВМ:

повышенное зрительное напряжение при напряжённой работе;

- постоянная переадаптация глаз; < наличие в поле зрения объекта различения и фона различной ярко­сти;

наличие разноудалённых объектов;

недостаточная чёткость и контрастность изображения на экране; строчность структуры воспринимаемой информации;

- постоянные яркостные мелькания;

подчас невысокое качество информации исходного ^окумента; наличие ярких пятен за счёт отражения светового потока на клавиа­туре и экране.

3.4.2. Мероприятия, обеспечивающие оптимальные условия зрительной работы

3.4.2.1. Нормирование искусственного и естественного освещения

до 45%; до 31%; до 50%.

Для снижения нагрузки на органы зрения пользователя при работе на ПЭВМ необходимо соблюдать следующие условия зрительной работы. При работе на ПЭВМ пользователь выполняет работу высокой точности, при ми­нимальном размере объекта различения 0,3-0,5 мм (толщина символа на экра­
не): разряда работы Ш, подразряда работы Г (экран светлый, символ - объект различения тёмный или наоборот). Естественное боковое освещение должно составлять 2%, комбинированное искусственное освещение 400 лк при общем освещении 200 лк. [3.3.]

3.4.2.2. Основные требования к естественному и искусственному освещению в производственном помещении

К системе производственного освещения предъявляются следующие основные требования [3.3., 3.14.]:

- соответствие уровня освещённости рабочих мест характеру выпол­няемой работы;

достаточно равномерное распределение яркости на рабочих поверх­ностях и в окружающем пространстве;

- отсутствие резких теней, прямой и отражённой блёскости (блёскость - повышенная яркость светящихся поверхностей, вызывающая ослеплён- ность);

- оптимальная направленность излучаемого осветительными прибо­рами светового потока.

Искусственное освещение в помещении и на рабочем месте создаёт хорошую видимость информации, машинописного и рукописного текста, при этом должна быть исключена отражённая блёскость.

В связи с этим предусматриваются мероприятия по ограничению сле­пящего воздействия оконных проёмов и прямое попадание солнечных лучей, а так же исключение на рабочих поверхностях ярких и тёмных пятен. Это достигается за счёт соответствующей ориентации оконных проёмов и рацио­нального размещения рабочих мест.

Площадь оконных проёмов должна составлять не менее 25% площади пола. В помещении рекомендуется комбинированная система освещения с ис­пользованием люминесцентных ламп. Для проектирования местного освеще­ния рекомендуются люминесцентные лампы, светильники которых установ­лены на столе или его вертикальной панели.

Светильники местного освещения должны иметь приспособления для ориентации в различных направлениях, устройства для регулирования ярко­сти и защитные решётки от ослепления и отражённого блеска.

3.4.2.3. Проектирование естественного и искусственного освещения

Расчёт естественного освещения.

Расчёт естественного освещения сводится к оценке расчётного коэф­фициента естественного освещения к нормируемому [3.14.].

При боковом естественном освещении расчётный коэффициент есте­ственного освещения определяется по следующей формуле [3.14.]

_ ^0Г1Г2 ^

S к к '

где:

емин _ расчётный коэффициент естественного освещения; S0 - площадь оконных проёмов, м2; Г) - коэффициент, учитывающий светопропускания окон­ных проёмов;

г2 - коэффициент, учитывающий отражение светового по­тока при боковом освещении; Sn - площадь производственного помещения, м2; к, - коэффициент, учитывающий отношение длины здания к ширине;

к2- коэффициент, учитывающий расстояние между соседними зданиями и высоту здания.

Пример расчёта.

Помещение, в котором находятся два рабочих места пользователя ПЭВМ имеет следующие размеры:

длина 5,0 м;

ширина 4,0 м;

высота 3,0 м;

два оконных проёма размером:

ширина 1,6 м;

высота 1,53 м.

Выбор параметров, входящих в формулу (1). Площадь оконных проёмов:

S0 = 2- 1,6- 1,53= 4,9 м2.

Коэффициент, учитывающий светопропускание оконных проёмов, при незначительном загрязнении воздуха рабочей зоны составляет 0,9.

Коэффициент, учитывающий отражение светового потока при боко­вом освещении составляет I.

Площадь производственного помещения:

Sn = 5 • 4 = 20 м2.

Коэффициент, учитывающий отношение длины здания к ширине, при отношении А/В = 1,25, составляет 1,1.

Коэффициент, учитывающий расстояние между соседними зданиями и высоту здания, при отсутствии рядом стоящих зданий составляет 1.

После подстановки выбранных параметров в формулу (1) получаем:

22 0,9 1 6мин 20- 1,1 ■ 1 '

Расчётный коэффициент естественного освещения,

емин = еноРм > естественное боковое освещение соответствует норме.

Расположение рабочих мест пользователей ПЭВМ относительно оконных проёмов представлены на рис. 3.13.


Схема расположения светильников в помещении


Рис. 3.13.
оконный проём; 2 - светильник; 3 - рабочий стол.

3.4.2.4. Расчёт искусственного освещения

Расчёт искусственного освещения по методу светового потока сводится к определению количества светильников по следующей формуле [3.14.] .

N = (E№opM-S„-K-Z)/(F-ti-n), (2)

где: Е„рм - нормируемая минимальная освещённость на рабочем месте, лк, Е1шрм - 400 лк; S„ - площадь производственного помещения, м2; Sn = 20 м2;

К - коэффициент запаса светового потока, зависящей от

степени загрязнения ламп; К = 1,4; Z - коэффициент минимальной освещённости для люми­несцентных ламп Z = 1/1 F - световой поток лампы, лм;

»7 - коэффициент использования светового потока ламп; п - число ламп в светильнике, п = 2.

Индекс помещения определяется по формуле: . АВ '~Нр(А + В)

где: А и Б - длина и ширина помещения, м;

Нр - высота подвеса светильника на рабочей поверхностью, м.

Пример расчёта.

Помещение, в котором находятся два рабочих места пользователя ПЭВМ имеет следующие размеры: длина 5 м;

ширина 4 м;

высота 3 м.

Потолок, пол и стены окрашены краской.

Выбор параметров, входящих в формулу (2).

Нормируемая минимальная освещённость на рабочем месте 400 лк.

Площадь производственного помещения: S„ = 5 • 4 = 20 м2.

Коэффициент запаса светового потока, зависящий от степени загряз­нения ламп, при незначительной загрязнённости ламп составляет 1,4.

Коэффициент минимальной освещённости для люминесцентных ламп составляет 1.

Выбираем тип люминесцентных ламп низкого давления:

1. Лампа ЛТБ-20, световой поток 975 лм;

2. Лампа ЛТБ-30, световой поток 1720 лм;

3. Лампа ЛТБ-40, световой поток 3000 лм.

Для определения коэффициента использования светового потока ламп определяем индекс помещения:

i = (5 • 4) / (2 • (5 + 4)) = 1,11.

Коэффициенты отражения потолка и пола принимаем 0,75 и 0,50 со­ответственно. В зависимости от индекса помещения и коэффициентов отра­жения потолка и пола находим коэффициент использования светового потока по таблице [3.14], который составляет 0,54.

Подставив все значения найдём количество светильников:

1. N = (200 • 20 • 1,4 • 1,1)/(975 • 0,54 • 2 • 0,9) = 10,8 =7 шт.

2. N = (200 -20- 1,4- I,I)/(I720 - 0,54 - 2 ■ 0,9)= 6,1 =4 шт.

3. N = (200 - 20 - 1,4 • 1,1)/(3000 • 0,54 • 2 • 0,9) = 3,52 = 3 шт.

4.

Из трёх вариантов выбираем наиболее экономичный. Для определе­ния оптимального варианта надо рассчитать:

Pyi) = N-F/S„

1. Pv„ = 7 ■ 975 / 20 = 343

2. Pvd = 4 • 1720/20= 194

3. Л„ = 3-3000 /20 = 450

Следовательно, наиболее экономичным будет вариант 2: ЛТБ-30, и поэтому конструктивно выбираем его.

3.4.2.5. Рациональная планировка рабочих мест

Для создания равномерной освещённости рабочих мест при рабочем освещении светильники с люминесцентными лампами встраиваются непо­средственно в потолок помещения и располагаются в равномерно- прямоугольном порядке. Наиболее желательное расположение светильников в непрерывный сплошной ряд вдоль длинной стороны помещения. Коэффици­ент наивыгоднейшего расположения светильников определяется по формуле [3.14.]:

Lm = Lc / Нр

где Lm - коэффициент наивыгоднейшего расположения светиль­

ников, Lm= 1,3;

Lc - расстояние между центрами светильников, м;

Нр - высота подвеса светильника над рабочей поверхностью,

м.

Отсюда, Lc= 1,3 ■ 2 = 2,6 м.

Число светильников определяется по формуле:

m=D/Lc,m = 4/2 = 2

Число светильников в ряду определяется по формуле: M=N/m,M=6/2 = 3 шт.

Суммарная длина светильников в ряду - I„М, учитывая, что

/„= [1л + (0,05 -0,1)],

где /с.„ длина светильника, м;

1л длина лампы, м. /„ = 0,909 + 0,09= 1 м.

Отсюда расстояние между светильниками в ряду определим из следующего соотношения:

К = A~lcd М , R = (5 - 1 ■ 3)/(3 + 1) = 0,5 М +1

Схема расположения светильников приведена на рис. 3.13.

3.4.3. Методы восстановления зрения при работе на ПЭВМ

Основные методы восстановления зрения при работе на ПЭВМ изложены в [З.1., 3.3., 3.17. - 3.19.] и представлены на рис. 3.14.


 


 


 

1 - пальминг; 2 - массаж окологлазных областей; 3 - гимнастика для глаз; 4 - тренинг внутриглазных мышц; 5 - общие упражнения.

Рис. 3.14.

Пальминг - сложить руки вертикально в центре лба козырьком, ладо­нями накрыть глазные впадины, ладони не ложны сжимать глазные яблоки, полностью исключить доступ света, свободно двигать веками.

Массаж глаз - пальцами осуществлять массаж окологлазных облас­тей.

Гимнастика для глаз - вращать глаза по и против часовой стрелки по кругу, перемещать глаза вертикально вверх и вниз.

Тренинг внутриглазных мышц - глазами и пальцем ограничивать вы­соту различных предметов. Одновременно чередуя упражнения для глаз с общими упражнениями всего тела.

3.5. Мероприятия по снижению синдрома нагрузки от излучения компьютера

3.5.1. Действие электромагнитных полей

Рабочее место программиста является энерго-насыщенным комплек­сом с полем до 200-250 Вт, содержащим электро- и радио-устройства с раз­личными физическими принципами действия и созданным вокруг поля широ­ким частотным спектропространственным распределением [З.1., 3.2., 3.17., 3.20.]:

переменные низкочастотные электрические поля;

переменные низкочастотные магнитные поля;

электромагнитный фон, создаваемый другими источниками на рабо­чем месте.

Источниками переменных электрических и магнитных полей ПЭВМ являются узлы, в которых присутствуют высокое переменное напряжение и узлы, работающие с большими токами.

На рис. 3.15. и 3.16. представлены схемы пространственного распре­деления переменного и магнитного и электрического полей.

По частотному спектру поля подразделяются на две группы:

поля, создаваемые блоком сетевого питания и блоком развертки дис­плея (основной энергетический спектр этих полей находится в диапазоне до 1 кГц);

поля, создаваемые блоком строчной развертки и блоком питания ПЭВМ (в случае если он импульсный).

Основной энергетический спектр этих полей находится в диапазоне до 1 кГц.

В спектрах электромагнитных полей, создаваемых монитором, при­сутствуют составляющие, частота которых существенно ниже частоты кадро­вой развертки. Это низкие электромагнитные колебания от единицы до не­скольких герц, частота которых близка к частотам биоритмов человеческого организма.

Перечисленные виды излучения безопасны для здоровья, и человек, ежедневно работающий за монитором, подвергается небольшому воздейст­вию этих сравнительно безвредных видов излучения.

Систематическое воздействие электромагнитных полей (ЭМП), пре­вышающих допустимую величину, может оказать неблагоприятное влияние на человека, выражающееся в функциональных нарушениях нервной, эндок­ринной и сердечно-сосудистой систем. При этом появляется повышенная утомляемость, головная боль, сонливость или нарушение сна , гипертония и боли в сердце, тормозятся рефлексы, наблюдаются изменения в крови, помут-' нение хрусталика глаза, нервно-психические и трофические заболевания (вы­падение волос, ломкости ногтей).

Функциональные нарушения, вызванные воздействием излучений, являются обратимыми, если устранить воздействие, но способны накапли­ваться в организме.

Следует отметить, что такая обратимость функциональных сдвигов не является беспредельной и в значительной мере определяется как интенсивно­стью, длительностью воздействия, так и индивидуальными особенностями ор­ганизма.

Силовые линии магнитного поля вокруг монитора


 

Пространственная диаграмма распределения интенсивности электриче­ского поля вокруг монитора (в горизонтальной плоскости)

Рис. 3.16

 

По результатам изменений ЭМП установлено, что максимальная на­пряженность электрического поля на корпусе монитора составляет 3,6 В/м, однако в местах нахождения пользователя эта величина соответствует фоно­вому уровню (0,2-0,5 В/м). Исследователями США обнаружены ЭМП от мо­нитора в радиочастотном участке спектра (31,5-1,42 Мгц), однако они ниже допустимых величин.

На расстоянии 5 см от экрана монитора интенсивность электрическо­го поля ЭМП составляет 28-64 В/м в зависимости от модификации, однако эти значения снижаются до 0,3-2,4 В/м на расстоянии 30 см от экрана. Уровень электромагнитного поля в области частот 10 кГц - 18 кГц колеблется от 1 до 5 Вт/м, что в 20 раз ниже допустимой величины (100 Вт/м), а напряженность электрического поля составляет 0,01-1,8 кВ/м.

В отечественной литературе отмечено, что мониторы выделяют рен- генновское, радиочастотное, инфракрасное, ультрафиолетовое излучение в пределах нормы.

В последнее время в зарубежных источниках появляются сообщения о том, что низкочастотные и очень низкочастотные (ОНЧ) ЭМП оказывают вредное воздействие и прежде всего на центральную нервную систему (го­ловные боли, депрессия, катаракта хрусталика, выкидыши, кожные заболева­ния).

Исследователями Швеции установлено, что ОНЧ (пульсирующее из­мерение) оказывает прямое воздействие на белые кровяные тельца, что может привести к возникновению в тканях опухолей (может быть и к злокачествен­ным).

Оптические виды излучения возникают благодаря взаимодействию электронов со слоем люминофора на экране. К видимому спектру примыкает излучение, близкое к ультрафиолетовому и инфракрасному диапазонам.

Диапазон длины волн (от 100 мм до 1 мм), составляющих оптическое излучение, содержит ионизирующее ультрафиолетовое (УФ), световое и ин­фракрасное (ИК) излучение.

Диапазон УФ в пределах 200-315 мм называется "актиническим" УФ (состоит из УФ-В - ближний УФ зрительного и УФ-С - дальний УФ бактери­цидного) УФ-С также содержит "вакуумный" УФ, который не пронизывает воздух. Актиническая область УФ вызывает большинство биологических эф­фектов, связанных с УФ-излучением.

Интенсивность ультрафиолетового и инфракрасного излучения от монитора составляет 10-100—мкВт/м при длине волны более 330 мм и 50 мкВт/м в диапазоне длины волн 700-1050 мм, что ниже допустимых величин.

ИК-излучение делится на ближнее (длина волн от 700 до 1050 мм) и

дальнее.

Высокочастотные ЭМП связаны с частотой формирования элемента изображения, а также с интенсивностью электронного луча (яркость точек на экране), с частотой системы информационного сигнала.

Низкочастотные ЭМП-возникают в системе горизонтальной разверт­ки (соединительные провода и экран, преобразователь горизонтальной раз­вертки).

ЭМП с крайне низкой частотой возникают в связи с частотой регене­рации (система вертикальной развертки) и модуляцией электростатических зарядов прерывистым отрицательным пучком.

Может возникнуть опасность по уровням напряженности электромаг­нитного поля. Как правило, на расстоянии 30 см перед экраном напряжен­ность электрической и магнитной составляющих поля ниже нормы - соответ­ственно 50 и 5 В/М. В зоне досягаемости на расстоянии 5-10 см от экрана и корпуса монитора уровни напряженности могут значительно превышать нор­мы, достигая 140 В/м электрической составляющей.

Источник высокого напряжения ПЭВМ - строчный трансформатор - помещается в задней или боковой части, поэтому уровень излучения со сто­роны задней панели выше.

Установлено, что максимальный уровень мягкого рентгеновского из­лучения от монитора составляет не более 10 мкбэр/ч, что значительно меньше допустимой интенсивности облучения для бытовой электронной аппаратуры 0,5 мкбэр/ч на расстоянии 5 м.

Фактором, влияющим на зрительный аппарат, двигательную и опор­ную систему человека, является рентгеновское излучение.

На рис 3.17. и 3.18. представлены результаты исследований напря­женности электромагнитного поля при работе дисплеев SIEMENS NIXDORF И HYUNDAI.

3.5.2. Организация рабочего места, обеспечивающая снижение воздействия на пользователя электромагнитных полей

К конструкциям мониторов предъявляются следующие требования: мощность экспозиционной дозы рентгеновского излучения в любой точке на расстоянии 0,05 м от экрана и корпуса монитора при любых положе­ниях регулировочных устройств не должна превышать 0,1 мбэр/час.

- уровень ультрафиолетового излучения на рабочем месте пользовате­ля в длинноволновой области (400-315 нм) должен быть не более 10 Вт/м, в средневолновой области (315-280 нм) не более 0,01 Вт/м и отсутствовать в коротковолновой области (280-200 нм).

напряженность электромагнитного поля на рабочем месте пользова­теля по электрической составляющей должна быть не более 10 В/м и по маг­нитной составляющей не более 0,3 А/м.

Одним из самых важных защитных мероприятий является установка заземленных защитных экранов, которые имеют соответствующий коэффици­ент пропускания света и обладают следующими эффектами [3.2., 3.2.1.]:

хорошо изолируют яркие видимые лучи, которые могут воздейство­вать на операторов, и устраняют отраженные лучи, затрудняющие смотрение;


Результаты измерения напряженности переменного электромагнитного поля дисплея SIEMENS NIXDORF

1-5 Гц... 2 кГц
50 В/м

20 В/м 2,5 В/м >

(на расстоянии 50 см от дисплея по окружности)

' 1.0 В/м

Напряженность магнитной составляющей ЭМП


 

Напряженность электрической составляющей ЭМП

N - норма по СанПин 2.2.2.542-96 О - со стороны пользователя

Рис 3.17


Результаты измерения напряженности переменного электромагнитного поля дисплея HYUNDAI

(Корея, на расстоянии 50 см дисплея по окружности)

1-5 Гц ...2 кГц II-2...400 кГц

Напряженность магнитной состаляющей ЭМП

 

 


 

Напряженность электрической составляющей ЭМП

N - норма по СанПин 2.2.2.542-96 О - со стороны пользователя (линия взгляда)

Рис 3.18.

устраняют статические заряды, которые могут вызвать раздражение

кожи;

останавливают неприятное дрожание букв на экране; изолируют ультрафиолетовые, ионизирующие радиационные лучи (рентгеновские, электромагнитные).

Для представления о возможностях различных фильтров параметры некоторых из них приведены в табл. 3.9.

Таблица 3.9.

    Xenum А, В Русский Щит [iryoStar Polaroid (пленоч­ный) Тайвань (Ken do, Agg и т п ) Тайвань (Ken do, Agg и т.п.) + Плазма М
Коэфф. пропускания ви­димой части спектра 380 .. 780 нм, % 25 ... 35 37 ... 40 32 ... 37 23 31
Коэфф пропус­кания УФ излуче­ния, % 290 320 нм 1.0 2,0  
290 . 280 нм 12. 15   10 20 4 6
Коэфф пропускания ИК излучения 760 . 2500 нм 25. .28   65..70 10. 15
Поверхностное сопро­тивление Rs, (Ом/м2) нет нет 7 .10
Ослабление электриче­ского поля, % нет нет
Коэфф отражения внеш­ней поверхности экрана, % 0,5 0,8 0,8... 1,3 0,6 4,5.. 5,2 0,7.. 1,0
Ослабле­ние ЭМ поля 0,01. 10 МГц   -     нет 40 дБ
до 30 МГц 1/Rs 21 дБ 1/R.s - нет 30 дБ
до 1000 МГц 1/Rs   1/Rs   нет 15 дБ

 

Необходимо отметить, что фильтры не полностью поглощают маг­нитное поле, пропуская переменное поле частотой 50 - 60 Гц, хотя и частично экранируя его. При этом фильтры (особенно фильтры полной защиты total shield) существенно ослабляют или устраняют другие поля. Использующийся фильтр должен быть обязательно заземлен - фильтры, не предусматривающие заземления крайне неэффективны. Фильтр позволяет практически полностью избавиться от статических полей.

Разработка организации рабочего места проведена на основании [3.2., 3.8., 3.20.].

Сравнительная характеристика защитных экранов для ПЭВМ (по материалам рекламных проспектов)

Рациональное размещение рабочих мест, оснащённых ПЭВМ выпол­нено следующим образом: расстояние от стены до ПЭВМ 1500 мм; расстоя­ние между рабочими столами с мониторами 3000 мм; расстояние между боко­выми поверхностями монитора 2000 мм; расстояние от экрана монитора до пользователя 600 мм.

Предусматривается установка экранов и фильтров для защиты от вредного воздействия электромагнитных излучений: фильтры (экраны) на ви­деомониторы типа "Polaroid" и класса "Полная защита" ("Синко", "Эргон").

На рис. 3.19. и 3.20. представлены общая рекомендуемая схема рас­положения рабочих мест с ПЭВМ и организация рабочих мест с ПЭВМ.

На рис. 3.21. представлена общая компоновка автономных рабочих мест пользователей ПЭВМ с экранной защитой.

Рекомендуемые варианты расположения рабочих мест с персональными компьютерами


 

1. рабочее место пользователя ПЭВМ;

2. ПЭВМ;

3. место пользователя ПЭВМ;

4. ограждение рабочего места.

Рис. 3.19.

Организация рабочего места рис. 3.20.


 

1. ПЭВМ;

2. ограждение рабочего места;

3. кресло пользователя ПЭВМ



 

3.5.3. Техническое решение по снижению ЭМП в помещении

Фон промышленной частоты 50 Гц может присутствовать в помеще­нии при наличии аппаратуры, бытовых нагревателей, осветительных систем в самом и соседних помещениях [3.20.].

На рис. 3.22. представлено помещение и компоновка рабочего места [3.20.]. У одной из стен помещения расположено ПЭВМ 1, измерительный прибор 2, щит питания ПЭВМ, заземление посредством централизованной шины здания 4, для заземления ПЭВМ проводником шнура питания на цен­трализованную шину заземления 5.

Общий вид компоновки рабочих мест пользователя ПЭВМ

Распределение фонового поля промчастоты 50 Гц от посторонних ис­точников по пространству помещения нарастает при измерении поля ПЭВМ прибором с встроенной (дипольной) антенной (рис. 3.22)

Схема помещения без заземления измерительного прибора

 

 

Пространственная координата в помещении

 

1. ПЭВМ;

2. прибор для измерения;

3. коробка для подключения ПЭВМ к сети;

4. шина для заземления;

5. соединительная шина ПЭВМ с шиной заземления;

6. посторонние источники промышленной частоты.

Рис. 3.22.


В зоне между обследуемым ПЭВМ 1 и измерительным прибором 2 присутствует поле AU промышленной частоты 50 Гц от посторонних источ­ников 6. Следовательно, участок обследуемого помещения у составляющей шины находится под нулевым потенциалом, так как в нем и ниже имеются источники электрического поля 6. По пространству обследуемого поля появ­ляется потенциал промчастоты 50Гц (рис.3.22.).

В помещении возникает разность потенциалов (AU) в зоне между об­следуемой ПЭВМ (1) и измерительным прибором за с чет цепей, находящихся внутри монитора, системного блока и других технических средств.

При заземлении монитора, системного блока и всех технических средств на общую шину по помещению образуется зона, свободная от полей промышленной частоты 50 Гц посторонних источников (рис. 3.23.) [3.20.].

Схема помещения с заземлением измерительного прибора

1. ПЭВМ;

2. прибор для измерения;

3. коробка для подключения ПЭВМ к сети;

4. шина для заземления;

5. соединительная шина ПЭВМ с шиной заземления;

6. посторонние источники промышленной частоты.

Потенциал поля промчастоты 50 Гц 220 В

Зона свободная от полей промчастоты 50 Гц посторонних источников

 

Пространственная координата в помещении

Рис. 3. 23.


На рис 3.24. представлено рабочее место пользователя ПЭВМ с под­ключением устройств к сети питания с целью исключения воздействия ЭМП от розетки.

Рекомендуемые компоновки рабочего места


 

 


1. рабочее место оператора;
(а)
(б)

г*

п\

I------- 12


 

 


клавиатура; монитор;

системный блок ПЭВМ;

принтер;

розетки питания;

сетевые кабели питания блоков ПЭВМ

Рис. 3.24


4. Технические решения безопасности в помещениях, где установлены ПЭВМ

4.1. Воздушная среда в помещении

4.1.1. Действие параметров микроклимата на организм человека

При повышении температуры в помещении, а следовательно, и тела человека наблюдаются изменения физиологических показателей в организме (сердечно-сосудистой, дыхательной, эндокринной систем) [4.1., 4.2.].

При высоких температурах воздуха, когда теплоотдача затруднена, дыхание может учащаться и становиться поверхностным.

Температура кожи туловища человека в условиях комфорта в покое колеблется в пределах 32-34,5 °С. Даже при высоких температурах воздуха она редко превышает 36-37 °С, поскольку, когда она достигает 35 °С, возни­кает потоотделение, ограничивающее дальнейший рост температуры кожи. Гигиеническое значение имеет выявление разницы температур на централь­ных и периферических участках поверхности тела: если она менее 1.8 °С, это соответствует ощущению жары; при разнице 3-5 °С наблюдается хорошее са­мочувствие, а выше 6 °С наступает ощущение холода. С увеличением темпе­ратуры воздуха уменьшается также разница температуры кожи на открытых и закрытых участках тела.

Температура тела - важнейший показатель теплообмена организма. Она зависит от скорости потери тепла, изменяющейся в зависимости от тем­пературы и влажности воздуха, его подвижности, наличия тепловых излуче­ний. Особого внимания заслуживает повышение температуры тела более чем на 1 °С и более, в особенности, если оно сопровождается признаками ухуд­шения самочувствия и нарушения компенсаторских функций организма (вя­лость, раздражительность, учащение дыхания и пульса).

Сердечно-сосудистая система при действии высоких температур ис­пытывает большое напряжение, изменяется и состав крови. Это связано с на­рушением водного обмена, сгущением и перераспределением крови (усилива­ется кровоснабжение кожи, подкожной жировой клетчатки), влиянием повы­шенной температуры на сердечную мышцу и тонус сосудов.

Работа в условиях высокой температуры оказывает влияние на функ­циональное состояние ряда других органов и систем. Отрицательное влияние на ЦНС проявляется в ослаблении внимания, замедлении реакций, ухудшении координации движений, что может быть причиной снижения производитель­ности труда и роста травматизма.

Действие высоких температур и теплового излучения может явиться причиной многих заболеваний.



©2015- 2017 stydopedia.ru Все материалы защищены законодательством РФ.